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ET 200臺(tái)階儀-日本小坂KOSAKA臺(tái)階儀 微細(xì)形狀測(cè)定機(jī)
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更新時(shí)間:2025-01-22 21:00:25

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日本小坂KOSAKA臺(tái)階儀 微細(xì)形狀測(cè)定機(jī)
KOSAKA ET 200基于Windows操作系統(tǒng)為多種不同表面提供全面的形貌分析,包括半導(dǎo)體硅片、太陽(yáng)能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫(yī)學(xué)器件、薄膜/化學(xué)涂層、平板顯示、觸摸屏等。使用金剛石(鉆石)探針接觸測(cè)量的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)高精度表面形貌分析應(yīng)用。ET 200能準(zhǔn)確可靠地測(cè)量出表面臺(tái)階形貌、粗糙度、波紋度、磨損度、薄膜應(yīng)力等

日本小坂KOSAKA臺(tái)階儀 微細(xì)形狀測(cè)定機(jī)

KOSAKA LAB ET 200微細(xì)形狀測(cè)定機(jī)(探針接觸式臺(tái)階儀)

株式會(huì)社小坂研究所(KOSAKA)是于1950年創(chuàng)立的公司,也是日本*家發(fā)表光學(xué)杠桿表面粗糙度計(jì),是一家具有悠久歷史與技術(shù)背景的專業(yè)廠商,主要有測(cè)定/自動(dòng)/流體三大部門其中測(cè)定部門為代表性單位且在日本精密測(cè)定業(yè)占有一席無(wú)法被取代的地位。

設(shè)備特點(diǎn)KOSAKA ET 200基于Windows操作系統(tǒng)為多種不同表面提供全面的形貌分析,包括半導(dǎo)體硅片、太陽(yáng)能硅片、薄膜磁頭及磁盤、MEMS、光電子、精加工表面、生物醫(yī)學(xué)器件、薄膜/化學(xué)涂層、平板顯示、觸摸屏等。使用金剛石(鉆石)探針接觸測(cè)量的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)高精度表面形貌分析應(yīng)用。ET 200能準(zhǔn)確可靠地測(cè)量出表面臺(tái)階形貌、粗糙度、波紋度、磨損度、薄膜應(yīng)力等多種表面形貌技術(shù)參數(shù)。

ET 200配備了各種型號(hào)探針,提供了通過過程控制接觸力和垂直范圍的探頭,彩色CCD原位采集設(shè)計(jì),可直接觀察到探針工作時(shí)的狀態(tài),更方便準(zhǔn)確的定位測(cè)試區(qū)域。

日本小坂KOSAKA臺(tái)階儀 微細(xì)形狀測(cè)定機(jī)

規(guī)格

一、測(cè)定工件

1. 大工件尺寸:φ160mm

2. 大工件厚50mm

3. 大工件重量:2kg

二、檢出器(pick up

1. Z方向測(cè)定范圍:Max. 600μm

2. Z方向分解能:0.1nm

3. 測(cè)定 10uN ~500uN

4. 觸針半徑:2 μm 60°

5. 驅(qū)動(dòng)方式:直動(dòng)式

6. 再現(xiàn)性:1σ= 1nm(全量程)1um以下臺(tái)階重現(xiàn)性可達(dá)0.2nm以下

三、X (基準(zhǔn)軸)

1. 移動(dòng)量(大測(cè)長(zhǎng))100mm

2. 移動(dòng)的真直0.2μm/100mm

3. 移動(dòng),測(cè)定速0.005~20mm/s

4. 線性尺(linar scale):分解能 0.1μm

四、Z軸:

1. 移動(dòng)量:50mm

2. 移動(dòng)速度:max.2mm/S

3. 檢出器自動(dòng)停止機(jī)能

4. 位置決定分解能:0.1μm

五、工件臺(tái):

1. 工件臺(tái)尺寸:φ160mm

2. 機(jī)械手動(dòng)傾斜: ±2° (±1mm/150mm)

、工件觀察max.135 (可選購(gòu)其它高倍CCD)

七、床臺(tái):材質(zhì)為花崗巖石

八、防振臺(tái)(選購(gòu))地型或桌上型

九、電源AC220V±10%,

50/60HZ, 300VA

十、本體外觀尺寸及重量

W500×D440×H610mm, 120kg

(含防震臺(tái))

 

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