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涂層光學(xué)晶片的自動分光光度空間分析
閱讀：350 發(fā)布時間：2019-3-26| 提 供 商 | 上海斯邁歐分析儀器有限公司 | 資料大小 | 593.6KB |
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頻繁且經(jīng)濟有效的光譜表征對于開發(fā)具有競爭力的光學(xué)薄膜涂層非常 重要。*自動化且無人值守的光譜測量有助于降低每次分析的成 本、提高分析效率，還有助于擴展質(zhì)保程序。在生產(chǎn)過程中，滿負荷 運轉(zhuǎn)的沉積室中常會涂覆大面積、通常呈圓形的襯底晶片。的光 學(xué)表征工具必須能夠在晶片被切割之前從用戶的晶片表面的特征 點獲得準(zhǔn)確且有意義的信息。
專為 Cary 7000 型安捷倫分光光度計 (UMS) 和型 測量附件包 (UMA) 設(shè)計的安捷倫固體自動進樣器可 容納直徑達 200 mm (8") 的樣品，并提供 UV-Vis 和 NIR 光譜范圍內(nèi)的角度反射率和透射率數(shù)據(jù)。
此前的研究已經(jīng)證明，將 Cary 7000 UMS 與自動 進樣器相結(jié)合，能夠?qū)?32x 樣品支架上的多個樣品 進行自動化、無人值守的分析 [1]，并對氧化鋅錫 (ZTO) 涂層的線性能帶隙梯度進行空間測繪 [2]。本 研究使用配備自動進樣器的 Cary 7000 UMS 對直 徑 200 mm 晶片上的涂層均勻性進行了自動化的角 度分辨測繪。
Cary 7000 UMS UV-Vis/NIR 分光光度計（圖 1）專 為 250 nm 至 2500 nm 波長范圍內(nèi)的多角度光度 光譜 (MPS) 測量而設(shè)計。在 MPS 應(yīng)用中，我們需 要測量樣品在較寬入射角范圍內(nèi)（從接近垂直到 傾斜入射角）的反射率和/或透射率 [3]。近 有研究證明，MPS 數(shù)據(jù)對于復(fù)雜薄膜的逆向工程 [4]、深入了解電介質(zhì)薄膜中總損耗的振蕩 [5]，以 及改進涂層生產(chǎn)步驟中應(yīng)用的逆向工程策略 [6] 很 有幫助。