首頁>>上海昊量光電設備有限公司>>視頻展示>>無掩模光刻>>microFAB-3D可實現(xiàn)復雜結(jié)構(gòu)的超高分辨率3D打印
microFAB-3D雙光子聚合3D納米光刻機基于雙光子聚合(TPP)激光直寫技術(shù)，幫助您在無需掩模的情況下實現(xiàn)以亞微米的分辨率生產(chǎn)出空出未有復雜的三維結(jié)構(gòu)，microFAB-3D的最小特征尺寸低至0.2um，在部分材料中可達67nm, 為微流體、微光學、細胞培養(yǎng)、微機器人或元材料領域開辟了新的前景。MicroFAB-3D具有開放性和適應性，可以滿足您的定制化需求。
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