勻膠顯影機  

勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。  

不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(yè)級別400瓦伺服電機系統(tǒng)，采用與track設備相同設計和程序，使您的工藝更具有實際應用意義；同類產品中的zui大達到50000RPM/S的旋轉加速度，確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和*的可重復性。  

主要性能指標：

主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學腐蝕易清潔）  

旋涂程序：zui多可存100組程序，每組100步，每個步驟可精確到0.1秒  

轉動速度：0-5,000rpm（更高速可選）  

旋涂加速度：0-10,000rpm/sec（空載）  

馬達旋涂轉速穩(wěn)定性能誤差<±1rpm  

轉速調節(jié)精度<1rpm，重復性<1rpm  

工藝時間設定：0-3,000sec/step，時間設置精度：0.1sec  

支持wafer尺寸1cm-300mm（12“圓晶）  

標準配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水）

產品特性優(yōu)點：  

主機在之前的勻膠機上升級，增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋  

全程序編輯功能，更方便的智能化操作，更好的顯影/清洗效果  

可實現(xiàn)zui多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作，或進行氮氣吹干  

控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作，使用更加方便  

顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇，視要求進行配置  

提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設計  

高可靠性和重復性，高轉速精度和更高轉速可選  

可添加去邊膠和背膠清洗功能