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北京華沛智同科技發(fā)展有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第10年

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CP4000化學(xué)拋光機(jī)
  • CP4000化學(xué)拋光機(jī)
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更新時(shí)間：2025-02-03 21:00:07

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Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require ......

Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require the use of specialised corrosive resistant equipment.

 

The CP4000 has been designed exactly for this application, and utilises a chemical etch polishing process to produce high quality results with minimal subsurface damage.

Ø Corrosive Resistant Construction

Ø Workdecks

Ø Polishing Plate

Ø Industry Standard System Architecture

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