金屬涂鍍層測厚儀MC-2000C0-5000umMC-2000C涂層測厚儀產(chǎn)品簡介

MC-2000C型涂層測厚儀（鍍層測厚儀），是*的結晶,它采用單片機技術，精度高、數(shù)字顯示、示值穩(wěn)定、功耗低、操作簡單方便、觸摸按鍵、單探頭全量程測量、體積小、重量輕；且具有存儲、讀出、統(tǒng)計、低電壓指示、系統(tǒng)校準，其性能達到當代同類儀器的*水平。

MC-2000C涂層測厚儀應用范圍

涂層測厚儀儀器采用磁性測厚法，可以方便無損地測量鐵磁材料上非磁性涂層的厚度，如鋼鐵表面上的鋅、銅、鉻等鍍層或油漆、搪瓷、玻璃鋼、噴塑、瀝青等涂層的厚度。該儀器廣泛應用于機械、汽車、造船、石油、化工、電鍍、噴塑、搪瓷、塑料等行業(yè)。

技術參數(shù)：MC-2000C涂層測厚儀工作原理

 MC-2000C型涂鍍層測厚儀采用電磁感應法測量涂鍍層的厚度。位于部件表面的探頭

產(chǎn)生一個閉合的磁回路，隨著探頭與鐵磁性材料間的距離的改變，該磁回路將不同程度的改變，引起磁阻及探頭線圈電感的變化。利用這一原理可以精確地測量探頭與鐵磁性材料間的距離，即涂鍍層厚度。

金屬涂鍍層測厚儀MC-2000C0-5000umMC-2000C涂層測厚儀產(chǎn)品特點

輕松讀取：可存入測量數(shù)據(jù)600個，對測量中的單個可疑數(shù)據(jù)進行刪除，也可以刪除存儲區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù)，讀出已存入的測量數(shù)據(jù)。

1、測量范圍：

MC-2000 A 型測量范圍：0-1500um
MC-2000 C 型測量范圍：0-5000um
MC-2000 D 型測量范圍：10-9000um 
可訂做管道內(nèi)涂（鍍）層測頭，30mm管徑以上

2、測量誤差：　　<3%±1um

3、zui小示值：　　1um

4、顯示方式： 4位液晶數(shù)字顯示

二、MC-2000C涂層測厚儀產(chǎn)品性能

1、測量范圍：　　0～5000um

2、測量誤差：　　<3%±1um

3、zui小示值：　　1um

4、顯示方式：    4位液晶數(shù)字顯示

5、主要功能：

   (1).測量：   　  單探頭全量程測厚

   (2).存儲、刪除： 可存入測量數(shù)據(jù)600個，對測量中的單個可疑數(shù)據(jù)進行刪除，也可以刪除存儲區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù)。

   (3).讀：　 讀出已存入的測量數(shù)據(jù)

   (4).統(tǒng)計： 設有三個統(tǒng)計量，平均值zui大值zui小值

   (5).校準： 可進行系統(tǒng)校準

   (6).電量： 具有欠壓顯示功能

   (7).打?。?可打印測量值，選配微型打印機

   (8).關機： 具有自動關機和手動關機兩種方法

6、電源：    　　　  兩節(jié)1.5v電池

7、功耗：      　　　zui大功耗100mw

8、外形盡寸：    　51mm*126mm*27mm

9、重量：　　　　　 160g（含電池）

10、使用環(huán)境溫度：　0℃～+40℃  相對濕度：不大于90%

11、基體zui小厚度：     0.5mm

12、基體zui小平面的直徑：   7mm

13、zui小曲率半徑：     凸:1.5mm      凹:6mm

14、欠電壓指示：       右上角顯示＂＂

*臨界厚度?。汗ぜF基厚度大于1mm時,其涂（鍍）層厚度的測量不受鐵基厚度

三、MC-2000C型涂層測厚儀配置單

 MC-2000C說明書下載

   1、MC-2000C型涂鍍層測厚儀                 一臺

   2、七號電池                               二節(jié)

   3、探頭                                   一支

   4、標準樣片                               一盒

   5、小鋁箱                                 一個

   6、說明書、合格證                         一套

 選配件：                                                               

    1、打印機及通訊打印連線                  1套  

    2、微機通訊軟件                          1盤

1. 內(nèi)防腐探頭

注意事項：

（１）測量曲面及圓柱體，曲率半徑較小時，應在未涂覆的工件上校準，以保證測量精度。

（２）在曲率半徑較小的凹面內(nèi)測量時，應重新校正。