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電子化工用水設(shè)備處理簡(jiǎn)介

微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品 、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝 及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要 求。目前我公司設(shè)計(jì)制造的電子級(jí)超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子 部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(電阻率為18MΩ*cm，15MΩ*cm，10MΩ*cm，2MΩ*cm和 0.5MΩ*cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純 水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo) 詳細(xì)信息

電子化工用水設(shè)備處理工藝流程

預(yù)處理(砂濾器、碳濾器、軟化器)→一級(jí)反滲透裝置→中間水箱→二級(jí)反滲透 裝置→超純水水箱→純水泵→用水點(diǎn) u 一級(jí)反滲透+混床制備超純水工藝流程 u 預(yù)處理→一級(jí)反滲透裝置→精制混床→精密過(guò)濾器→超純水水箱→純水泵→用 水點(diǎn) 二級(jí)反滲透+拋光混床制備超純水工藝流程 u 預(yù)處理→一級(jí)反滲透裝置→中間水箱→二級(jí)反滲透裝置→拋光混床→精密過(guò)濾 器→超純水水箱→純水泵→用水點(diǎn) u 二級(jí)反滲透+EDI+拋光混床制備超純水工藝流程(電阻率18MΩ.cm) u 預(yù)處理→一級(jí)反滲透裝置→中間水箱→二級(jí)反滲透裝置→EDI主機(jī)→超純水水 箱→純水泵→拋光混床→超純水水箱→純水泵→用水點(diǎn)

電子化工用水設(shè)備特點(diǎn)

電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密 過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽