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晶圓等離子清洗機(jī)灰化去光刻膠可清洗晶圓表面的顆粒、有機(jī)物、金屬雜質(zhì)、氧化物等。

晶圓等離子清洗機(jī)（等離子灰化/去光刻膠/聚合物剝離/預(yù)處理/介電質(zhì)刻蝕/晶圓凸點(diǎn)/有機(jī)污染去除/晶圓減?。?span style="font-size: 18px; font-family: 宋體, SimSun; color: rgb(102, 102, 102);">廣泛應(yīng)用于等離子清洗，等離子表面活化，表面改性，等離子刻蝕等

晶圓級(jí)封裝前處理的等離子清洗機(jī)晶圓等離子清洗機(jī)，灰化去光刻膠

等離子清洗機(jī)對(duì)晶圓級(jí)封裝前處理的目的是去除表面的無(wú)機(jī)物，還原氧化層，增加銅表面的粗糙度，提高產(chǎn)品的可靠性。

等離子清洗機(jī)用于晶圓級(jí)封裝前表面預(yù)處理、晶圓級(jí)鍵合前表面活化、光刻膠涂覆前表面活化、晶圓表面較小particle去除、表面有機(jī)殘留去除等。

用等離子清洗機(jī)處理清洗機(jī)產(chǎn)生的輝光等離子體，可以有效地去除被處理材料表面的原始污染物和雜質(zhì)，產(chǎn)生蝕刻作用，使樣品表面粗糙，并產(chǎn)生許多小凹坑，增加了接觸面積，提高了表面的潤(rùn)濕性（俗話說(shuō)，增強(qiáng)了表面的附著力，增強(qiáng)了親水性）。等離子清洗機(jī)解決粘接、印刷、噴涂、靜電去除等技術(shù)難題，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)代制造技術(shù)追求的高品質(zhì)、高可靠性、效率高、低成本、生態(tài)環(huán)境保護(hù)的目標(biāo)。