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沃特世大氣壓氣相色譜電離源APGC - 無需犧牲數(shù)據(jù)質(zhì)量的新型氣質(zhì)技術(shù)

沃特世大氣壓氣相色譜電離源（APGC）為當(dāng)今*的MS技術(shù)增添了新的氣質(zhì)功能。

它可以幫助GC用戶實現(xiàn)：

• 高效、便捷地提高分析通量

• 超痕量定量

• 高質(zhì)量的MS和MS/MS數(shù)據(jù)

• 高分辨離子淌度分離

大氣壓氣相色譜電離源優(yōu)勢：沃特世APGC為GC用戶帶來了*的*MS技術(shù)，無論您需要對復(fù)雜樣品進行超痕量定量，還是進行完整的UPLC、UPC2和GC篩查，以獲取全部樣品信息，APGC都能滿足您的需求。

為當(dāng)今*的MS技術(shù)增添新的氣質(zhì)功能

APGC可為Xevo和SYNAPT質(zhì)譜儀提供電離源。這是一種軟電離源，也就是說：對于許多化合物而言，這種電離與諸如EI等技術(shù)相比，得到的碎片較少。減少碎片數(shù)量，可以提高靈敏度和特異性，很容易得到MS/MS分析中的母離子信息。

基于沃特世通用離子源結(jié)構(gòu)和工程精簡（Engineered Simplicity）的設(shè)計理念，從UPLC到GC的切換就變得十分快速與簡便。APGC并不是一種需要真空的技術(shù)，因此這兩種技術(shù)切換后的平衡時間可以壓縮到zui短。這意味著用戶可以根據(jù)業(yè)務(wù)需求選擇分析方法，從而使儀器的正常運行時間和利用率達到zui大化。

現(xiàn)在氣質(zhì)分析也可以采用沃特世*的*質(zhì)譜技術(shù)，例如RADAR、MSE和HDMS等。解開樣品中蘊藏的秘密，確保您的分析能得到更多的信息。

沃特世大氣壓氣相色譜電離源Xevo TQ-S與APGC結(jié)合 - 超痕量定量

Xevo TQ-S /APGC配備了*的StepWave™技術(shù)，可以實現(xiàn)超痕量級檢測。這樣，在符合規(guī)定限值的同時，還可以減少樣品基質(zhì)的注入，降低對氣質(zhì)系統(tǒng)的污染，從而延長儀器正常運行時間。這種*的源設(shè)計可以提供更高的基質(zhì)耐受性和出色的進樣重復(fù)性。StepWave離子傳輸光學(xué)設(shè)備和檢測技術(shù)可以在zui大動態(tài)范圍內(nèi)進行準(zhǔn)確和精密的定量。

大氣壓氣相色譜電離源Xevo G2-S QTof與APGC結(jié)合 - 利用GC進行更大范圍的化合物鑒定、定量和確認(rèn)

許多分析都需要交叉使用LC和GC。沃特世 Xevo G2-S QTof可通過ACQUITY UPLC和GC分離，對樣品進行完整的篩查。MSE可以為科學(xué)家提供樣品中每一種可檢測成分的母離子和碎片離子的精確質(zhì)量譜圖，簡化了成分鑒定的過程。

QuanTof結(jié)合了創(chuàng)新的幾何學(xué)和離子檢測系統(tǒng)，可以增強靈敏度、提供出色的色譜/質(zhì)譜分辨率，以及在質(zhì)譜分析動態(tài)范圍內(nèi)的基質(zhì)耐受性、定量性能和質(zhì)量數(shù)準(zhǔn)確度。

Xevo G2-S QTof經(jīng)過專門設(shè)計，可以滿足科學(xué)家在zui復(fù)雜和挑戰(zhàn)性的樣品環(huán)境中進行zui大范圍的化合物鑒定、定量和確認(rèn)的需要。

大氣壓氣相色譜電離源SYNAPT G2-Si與APGC結(jié)合 - 為氣質(zhì)提供研究級的高分辨離子淌度分離

APGC可以為GC用戶提供*的高水平的研究級高分辨離子淌度分離，并具備一系列*的實驗功能，能夠獲得*其它分析平臺的新發(fā)現(xiàn)。

這種精確質(zhì)量數(shù)、分離度和離子淌度的結(jié)合，可實現(xiàn)*的選擇性水平，提供*的樣品信息完整度。

利用高效的T-Wave離子淌度分離技術(shù)，有助于實現(xiàn)優(yōu)異的分離效果，為您的分析增添更多的維度。這些前沿技術(shù)的結(jié)合，可以提供比以往更廣泛的實驗選擇范圍，讓您能夠zui大程度地獲取樣品信息。