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　　橢圓偏振光譜是一種表面敏感、非破壞性、非侵入性的光學(xué)技術(shù)，廣泛應(yīng)用于薄層和表面特征。根據(jù)薄膜樣品反射的線偏振光偏振態(tài)的變化，通過模型擬合得到厚度和光學(xué)常數(shù)。根據(jù)薄膜材料的不同，可測量的厚度從幾微米到幾十微米不等。橢圓偏振光譜是一種很好的多層薄膜測量技術(shù)。

　　

　　橢圓偏振儀可以表征薄膜的一系列特性，如薄膜厚度、光學(xué)性質(zhì)（n，K）、光學(xué)帶隙、界面和粗糙度厚度、薄膜成分、薄膜均勻性等。采用新型高頻偏振調(diào)制技術(shù)，測試過程無機械轉(zhuǎn)動。與傳統(tǒng)的橢偏儀相比，它具有更快的測試速度、更寬的測量范圍和更高的表征精度。

　　
 

　　橢圓偏振儀是一種用于檢測薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)和材料微觀結(jié)構(gòu)的光學(xué)測量設(shè)備。由于不與樣品接觸，因此不會損壞樣品，也不需要抽真空，可測量的材料包括半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機物、金屬和多層材料。也可應(yīng)用于半導(dǎo)體、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學(xué)鍍膜、平板顯示、科研、生物、醫(yī)藥等領(lǐng)域。

　　

　　橢圓偏振儀主體采用高強度鋼鋁結(jié)構(gòu)，底座采用三維圓盤設(shè)計，并采用高精度蝸桿軸承系統(tǒng)，增強入射角控制精度，提高機械強度和穩(wěn)定性儀器，并通過計算機控制自動改變M入射角，同時結(jié)合光譜測量。儀器的狀態(tài)調(diào)整、參數(shù)設(shè)置、數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理均由計算機自動完成，方便用戶使用。廣泛應(yīng)用于大學(xué)教學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)，可用于研究金屬、非晶、太陽能材料、非線性材料等，是一款高性價比、高集成度、高穩(wěn)定性的通用型納米薄膜厚度測量分析儀器并且操作簡單。它的主要功能如下：

　　

　　1、各種功能材料的光學(xué)常數(shù)測量和光譜特性分析；

　　

　　2、測量薄膜材料的折射率和厚度；測量對象包括：金屬、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、絕緣體、非晶、超晶格、磁性材料、光電材料、非線性材料；測量光學(xué)常數(shù)：復(fù)折射率實部虛部、復(fù)介電常數(shù)實部虛部、吸收系數(shù)a、反射率R。