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Excipolar Scatfere 原位電化學(xué)干涉散射成像系統(tǒng)
- 公司名稱 常州譜光慧聯(lián)科技有限公司
- 品牌
- 型號 Excipolar Scatfere
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2025/5/7 19:13:44
- 訪問次數(shù) 33
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常州譜光慧聯(lián)科技有限公司是一家專注于為材料科學(xué)、生命科學(xué)以及半導(dǎo)體、光電子等相關(guān)領(lǐng)域的復(fù)雜應(yīng)用提供光學(xué)與光譜分析解決方案的精密儀器公司。公司主營業(yè)務(wù)為光學(xué)與光譜技術(shù)和檢測分析設(shè)備的研發(fā)、制造、生產(chǎn)、銷售、以及相關(guān)服務(wù)業(yè)務(wù)。
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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儀器種類 | 普通凝膠成像 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè) |
原位電化學(xué)干涉散射成像-共聚焦拉曼關(guān)聯(lián)系統(tǒng)
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高分辨、原位表征、特別的離子遷移觀測解決方案
干涉散射成像,是基于顯微成像技術(shù)拓展而來的,具有高分辨和高對比度的成像技術(shù)。其利用激光寬場照明,獲得樣品對激光的散射信號,再通過干涉方式對樣品表面進(jìn)行成像。由于干涉信號對樣品表面的折射率變化異常敏感,因此能夠以較高的空間分辨率對電化學(xué)充放電過程中所引起的顆粒表面的細(xì)微變化進(jìn)行成像,并以高對比度反映充放電時離子化合物的形成、變化和遷移過程并分析其電化學(xué)機(jī)理。
該系統(tǒng)還結(jié)合了共聚焦顯微拉曼成像技術(shù),能夠在樣品同一位置原位實(shí)現(xiàn)干涉散射成像與共聚焦拉曼光譜的表征,從而綜合表征充放電過程中材料的結(jié)構(gòu)、成分等性質(zhì)的變化,以及離子遷移的過程。
• 特別的干涉散射成像模式,反映離子化合物的形成、遷移和分布。
• 可原位獲得樣品同一區(qū)域的干涉散射成像和拉曼光譜/mapping結(jié)果。
• 較高的空間分辨率(300nm 720nm波長)。
• 自動聚焦等自動化操作和數(shù)據(jù)采集功能,確保光路的穩(wěn)定性,以及易用性。
應(yīng)用領(lǐng)域
• 電化學(xué)、電池材料
• 二維材料等微納米材料
Specifications
光譜范圍 | 300-1050nm |
拉曼光譜分辨率 | <1cm-1 (532nm激發(fā)) |
拉曼截止波數(shù): | <100cm-1 (532nm激發(fā)) |
干涉散射成像空間分辨率 | 300nm |
樣品臺 | X=50mm * Y=50mm,Z=20mm 步進(jìn)精度優(yōu)于 0.05μm,重復(fù)精度2μm |
特色功能 | 自動聚焦、原位干涉散射-拉曼光譜關(guān)聯(lián)成像 |