ABSEM 200 氬離子束場發(fā)射掃描電子顯微鏡，作為一款創(chuàng)新的多功能樣品制備和分析系統(tǒng)，突破性地將寬束氬離子槍集成于掃描電鏡的樣品室內(nèi)，成功實(shí)現(xiàn)了離子束原位拋光以及高分辨電子束成像分析的無縫銜接，無需繁瑣的樣品轉(zhuǎn)移流程極大地提升了分析效率。 ABSEM 200 所搭載的寬離子束技術(shù)，具備強(qiáng)大的處理能力，能夠輕松應(yīng)對毫米級的大尺寸樣品，極大地拓寬了其應(yīng)用范圍。掠射角的設(shè)計(jì)可以有效降低在處理過程中對樣品造成的損傷，確保了樣品的完整性和原始狀態(tài)。納米級層切模塊能夠精準(zhǔn)控制去層厚度，且擁有雜屑捕獲裝置確保系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行，有效避免了雜屑對實(shí)驗(yàn)的干擾和潛在風(fēng)險(xiǎn)。 ABSEM 200 氬離子束場發(fā)射掃描電子顯微鏡特別適用于環(huán)境敏感或結(jié)構(gòu)復(fù)雜的樣品，為用戶提供了一種高效精確的樣品表征解決方案。

產(chǎn)品優(yōu)勢

高分辨成像分析：1.0nm@15KV，1.5nm@1KV

大面積樣品處理：最大可達(dá)10mm

高精度層切控制：納米級壓電臺，最小步進(jìn)8nm

高效率原位拋光：集成式設(shè)計(jì)，無需真空轉(zhuǎn)移

優(yōu)秀的電子光學(xué)設(shè)計(jì)

穩(wěn)定的離子加工系統(tǒng)

高精度擋板層切模塊

優(yōu)秀的雜屑捕獲裝置

產(chǎn)品參數(shù)

離子光學(xué)系統(tǒng)

離子束能量范圍：0.5KV—5KV

離子束束流：10—500μA

束斑直徑：0.3—10mm

氣體類型：氬氣

常用工作氣壓：5e—5mbar

入射角度：3—9°

離子束加工樣品尺寸和要求

樣品尺寸：≤12mm×12mm×5mm

樣品重量：≤300g

層切范圍：≤200μm

層切步進(jìn)：≥8nm

電子光學(xué)系統(tǒng)

電子槍類型：高亮度肖特基場發(fā)射電子槍

加速電壓：0.02—30KV

電子束流：1pA—20nA（100nA選配）

放大倍率：1—2,000,000X

分辨率：1.0nm@15KV（SE），1.5nm21KV（SE）

探測器

標(biāo)配：樣品室內(nèi)二次電子探測器；鏡筒內(nèi)二次電子探測器；

選配：標(biāo)準(zhǔn)背散射電子探測器；低壓背散射電子探測器

樣品室

倉庫：內(nèi)徑340mm，高度260mm；全自動(dòng)雜屑捕獲裝置；多附件接口，可加裝EBSD、EDS，等離子清洗機(jī)等多種附件

樣品臺：X、Y=125mm，Z=50mm，R=360°連續(xù)，T=-5~70℃

影像系統(tǒng)：光學(xué)導(dǎo)航、樣品室內(nèi)監(jiān)控、氬離子束監(jiān)控

軟件及圖像處理

語言：中文/英文，可定制其他語言

操作系統(tǒng)：Windows

圖像分辨率：512*512-16K*16K

自動(dòng)功能：自動(dòng)聚焦、自動(dòng)亮度對比度等

參數(shù)推薦：預(yù)設(shè)常用材料拋光參數(shù)

其他功能：分屏顯示、圖像注釋和測量、圖像混合、大面積圖像采集和拼接等