半導體靜電吸附盤清潔晶圓-clean wafer：

在晶圓生產蝕刻/薄膜真空設備ESC 靜電吸附盤表面掉落粉塵后會導致B/H cool flow 異常，通過clean wafer 清潔靜電卡盤，能夠有效解決相關問題，減少設備停機時間，提高設備利用率。

武漢易達新材料有限公司還為客戶提供了多中產品選擇方案：

CCW 300-E/CCW 200-E 適用于Dry ETCH/PVD/CVD的ESC清潔以及真空吸盤表面清潔

CCW 300-T/CCW 200-T 適用于探針測試設備的探卡清潔

此產品優(yōu)秀的性能將會為客戶減少由于B/H問題帶來的設備PM成本，減少客戶down 機時間。