Helix超臨界萃取/反應系統(tǒng)，REASI HELIX超臨界萃取/反應/制粒可廣泛適用于（1）藥物、食品和類藥物營養(yǎng)品等目標產(chǎn)物的提取（2）超臨界干燥（3）超臨界清洗（4）超臨界印染（5）超臨界反應等。具有三種微粒制備方式：GAS，PCA ，RESS。

HELIX REASI HELIX多功能超臨界儀技術參數(shù)：

• 超臨界萃取/反應/制粒可以用于超臨界萃取，超臨界反應，超臨界微粒制備

• 最高操作溫度可達 250℃

• 最高操作壓力可達 10,000 psi (680bar)，可選1000Bar。

• 最高流量400ml/min（液態(tài)）

• 可選配分離模塊

• 模塊化的設計，可方便的進行系統(tǒng)調(diào)整

• 萃取釜承壓為 30,000 psi，萃取體積：5ml至4000ml可選，可根據(jù)用戶需求進行定制。

• 可添加夾帶劑 (夾帶劑泵的壓力為10,000 psi）

• 觸摸屏電腦控制，人性化的操作界面

• 結(jié)晶微粒無溶劑殘留

• 具有三種微粒制備方式：GAS，PCA ，RESS。

• 干燥氣凝膠

• 可選配攪拌功能

• 可選配液體逆流萃取

• 可選配PSE（壓力溶劑萃?。┌?/span>

• 三重過壓安全保護裝置及經(jīng)濟壓力釋放裝置

• ASI是超臨界技術，通過了ISO9001的質(zhì)量認證，是超臨界領域通過美國環(huán)保署綠色認證的公司。