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JCP200 單靶磁控濺射鍍膜機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京泰科諾科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) JCP200
  • 產(chǎn)地 北京昌平
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2019/8/8 9:52:36
  • 訪問次數(shù) 257

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  北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來,一直專注于真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備及其工藝。是一家集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售和服務(wù)于一體的*,在行業(yè)內(nèi)獨(dú)樹一幟。

  目前形成:一總部(北京昌平)二基地(懷來、任丘)的格局。

  公司擁有一支由多位教授、博士等*的技術(shù)研發(fā)、顧問團(tuán)隊(duì),具有較強(qiáng)的自主研發(fā)能力,確保了真空設(shè)備產(chǎn)品的高水平;同時(shí)建有研發(fā)鍍膜工藝、服務(wù)客戶的開發(fā)實(shí)驗(yàn)室,始終保持技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

  現(xiàn)有員工80人,其中博士以上學(xué)歷2名,碩士以上學(xué)歷4名,大專以上學(xué)歷45人。

  公司主要研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)磁控濺射鍍膜機(jī)、蒸發(fā)鍍膜機(jī)多功能復(fù)合鍍膜機(jī)、粉體鍍膜設(shè)備高真空應(yīng)用爐、CVD金剛石設(shè)備、大型應(yīng)用定制設(shè)備以及與之配套的工藝技術(shù)廣泛應(yīng)用于各大高等院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研和批量制備。真空產(chǎn)品、技術(shù)及其服務(wù)已經(jīng)覆蓋全國(guó)的28個(gè)省市有超過1600臺(tái)設(shè)備在運(yùn)行,而且遠(yuǎn)銷澳大利亞美國(guó)、土耳其馬來西亞等國(guó),深受用戶的好評(píng)。

蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,磁控鍍膜設(shè)備,電子束鍍膜設(shè)備,熱絲CVD設(shè)備,高真空退火爐,裝飾鍍膜設(shè)備

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 10萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件,電氣

產(chǎn)品特點(diǎn)/用途

? 磁控濺射鍍膜設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用;占地面積小,價(jià)格便宜,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;

? 磁控濺射鍍膜設(shè)備可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等;

? 鍍膜示例:銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等;

? 單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。

二、技術(shù)參數(shù)

型號(hào)JCP200
真空腔室結(jié)構(gòu)立式上開蓋結(jié)構(gòu),下置抽氣系統(tǒng),手動(dòng)氣彈簧提開式
真空腔室尺寸Φ220×H300mm
加熱溫度室溫~500℃
濺射方式向上濺射
旋轉(zhuǎn)基片臺(tái)Φ100mm
膜厚不均勻性Φ50mm范圍內(nèi)≤±5.0%
濺射靶/蒸發(fā)電極Φ2英寸磁控靶1支,兼容DC/RF濺射
工藝氣體1-2路氣體流量控制
控制方式PLC觸摸屏控制
占地面積(主機(jī))L600×W800×H1700mm
總功率≥6KW
 
型號(hào)

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