一、涂料用去離子水設備概述

化工行業(yè)中溶劑用水、化學分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質的分離、濃縮、提純，廢物回收等場合都需要用到水質20μs/cm~0.1μs/cm的純水或更高水質的超純水?；ば袠I(yè)對純水、超純水需求場合很多，各應用場合對水質、水量需求不盡相同，這也導致設備配置差異很大，軟水、反滲透純水、離子交換純水、離子交換超純水、EDI電去離子超純水等，幾乎涵蓋所有純水、超純水工藝設備，在化工行業(yè)都用應用，客戶在購買設備前務必確認怎樣品質的水能夠滿足您的使用需求。

二、涂料用去離子水設備應用領域

• 化工材料的生產(chǎn)和加工過程所用的溶劑及清洗過程；

• 超純材料和超純化學試劑；

• 電子半導體、集成電路板上用到的化工材料；

• 電池(蓄電池)制造過程工藝純水；

• 光學鏡片的超聲波清洗；

• 石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純；

• 實驗室和中試車間；

• 高純墨水、傳真打印機中的噴墨、納米墨水。

三、工藝流程

1、一級反滲透 混床（出水2---15mΩ.cm）

原水箱—原水泵—多介質過濾器—活性炭過濾器—軟水器→保安過濾器→高壓泵—反滲透主機→純水箱—純水泵→陰陽離子交換混床→微孔過濾器—儲水罐→純水輸送泵→用水點

2、一級反滲透 EDI系統(tǒng)（出水5---15mΩ.cm）

原水箱---原水泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→高壓泵---反滲透主機→純水箱—EDI系統(tǒng)→儲水罐→純水輸送泵→用水點

3、二級反滲透 EDI系統(tǒng)（出水18mΩ.cm）

原水箱—原水泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→一級高壓泵—一級反滲透主機→PH調節(jié)—二級級高壓泵—二級反滲透—純水箱—脫氣裝置—微孔過濾器→EDI系統(tǒng)→拋光混床系統(tǒng)—儲水罐→純水輸送泵→用水點

四、出水標準

符合美國ASTM標準、符合《中國電子行業(yè)超純水國家標準》GB/T1146.1-1997

（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）

五、訂貨須知

具體的設備處理量、出水標準、設備材質、尺寸及電器控制等，我公司將會提供給您詳細的方案說明。

溫馨提示：水處理設備的要求需要了解幾點內容：

1、純水的產(chǎn)水量（按每小時計算）

2、純水要求的水質（例如多少兆歐）

3、原水進水水質是什么水（例如自來水，地表水，深井水）

4、制作純水的工藝（工藝不一樣價格也不一樣）

5、用于生產(chǎn)什么產(chǎn)品（例如電池片，蓄電池，玻璃行業(yè)，化妝品行業(yè)，化工行業(yè)等）

6、配置的品牌及控制方式（PLC自動控制，手動控制）型號和數(shù)量等。