產品名稱：科研單位礦石提純高溫爐
產品型號：TF1200-80
科研單位礦石提純高溫爐TF1200-80設備簡介：
本設備是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實驗、真空退火﹑熔化﹑物質成分測量分析而研制的理想設備。
TF1200-80應用領域：
半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)領域。
TF1200-80技術參數：

設備名稱：1200度管式爐
設備型號：TF1200-80
爐管材質：石英管
爐管尺寸：80mm*1000mm（管徑*管長）
加熱區(qū)尺寸：440mm
恒溫區(qū)尺寸：200mm
zui高溫度：1200度
工作溫度：≤1100度(連續(xù))
工作電源：單相 220V 50/60Hz 3Kw 
加溫
加熱元件：優(yōu)質電阻絲，環(huán)形加熱。
升溫速率：10-15℃/min 
測溫
測溫元件：N型熱電偶 
控溫
溫控儀表：數顯儀表，智能化30段PID可編程控制。
控溫精度：±1℃，超溫報警
保溫
保溫材料：多晶氧化鋁纖維材料，保溫效果好，熱能損耗少。 
充氣正壓：≤ 0.02MPa
可通氣體：惰性氣體和還原性氣體等。 
法蘭（爐管兩端配有不銹鋼密封CF法蘭，包括精密針閥、指針式真空壓力表、軟管接頭，若有特殊需求，可選配以下法蘭）
1、聚四氟乙烯法蘭，用于有腐蝕環(huán)境。
2、水冷法蘭，用于更好防止密封圈老化。
3、KF法蘭，用于更高真空需求。 
真空（根本實際需要選配以下不同真空泵或真空系統）
1、標準旋片式機械真空泵，直插接口，極限真空可達50Pa。
2、DZK10-1低真空系統，KF接口，極限真空可達1*10-1Pa。
3、GZK10-3高真空系統，KF接口，極限真空可達1*10-3Pa。
打開方式：封閉式，爐管從兩側插入。
外形尺寸：1000*406*505(寬*深*高)mm
包裝尺寸：1300*600*700mm
設備凈重：60Kg
包裝毛量：110kg
設備包箱：木箱+珍珠棉+防塵膜
發(fā)貨物流：送貨上門，不含卸貨。
質  保  期：一年，相關耗材除外，如加熱元件等易耗件

標準配件：
剛玉舟1只、爐鉤1把、管堵2只、剛玉管1根、304法蘭1套、密封圈4只、浮子流量計1只、耐高溫手套1雙、產品說明書1份、儀表說明書1份、保修證書1份。 
可選配件：
1、浮子或質子流量供氣系統。
2、真空系統。
3、300W或500W等離子射頻電源。
4、可選配移動爐架，將管式爐放置在爐架上。 
注意事項：
1、為了不影響設備正常使用壽命，請不要過快升降溫（如需快速升溫請?zhí)崆案嬷商嵘訜嵯到y）。
2、請不要往管內通入超過0.02MPa的氣體壓力。
3、本設備使用一段時間后，爐膛會出現微小裂紋，屬于正?，F象，不會影響使用，可向業(yè)務人員免費索取氧化鋁涂層修補劑。
4、由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全。
5、進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。
6、對于只對樣品加熱的實驗（不抽真空不通氣體），不建議使用時關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥。若需要關閉氣閥對樣品加熱，您必須時刻關注壓力表的指數（氣壓會隨溫度升降而變化），若壓力表指數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）。
非標定制：
我廠可根據客戶要求定制非標爐型，來滿足客戶實驗工藝，如您對實驗工藝不是很了解，也可寄樣品到我廠，本廠建立了*的客戶實驗中心，配備各個行業(yè)所需爐型，可供您實驗與測試，以便您購買到更適合的產品。