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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>去膠機>PPC973 PPC等離子去膠機

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PPC973 PPC等離子去膠機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 PPC973
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2024/5/16 14:33:40
  • 訪問次數(shù) 2103

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半導體化工領域專業(yè)實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創(chuàng)新精神的高科技公司,專業(yè)提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發(fā)、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優(yōu)質專業(yè)的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。




勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

產地類別 進口 應用領域 化工,能源,電子/電池

PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺臺式微波等離子清洗機設備。等離子清洗機系統(tǒng)融合了下面的特點,并在眾多的應用領域中得到肯定。

產品特色

負載循環(huán)控制,模擬功率控制

處理機存儲

水冷底座

減少污水排放

安全保護設計

操作簡便 維護方便

應用范圍:

混合電路板制造中基片的清洗

打線工藝前清洗電子部件,提高其可靠性

錫焊或焊接工藝前,關鍵性鍍金部件的清洗

清洗半導體元器件

光刻膠去膠

上膠、印刷和其它表面浸濕操作的表面準備

鍍膜前對光學器件清洗

清洗石英、藍寶石及其它材料

適用工藝:

打線墊清洗、減少金屬氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片墊;

去除光刻膠、塑料表面上膠處理、去除油漬或是環(huán)氧殘留物;

清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光學部件、清洗半導體表面、清洗鍍銀部件;

塑膠密封劑去除--失效模式分析

型號

PPC862

PPC973

反應艙尺寸(H*W*D)

203mm x 152 mm x 50mm

229 x 178 x 76 mm

冷卻面(H*W)

203 mm x 152 mm

229 mm x 178 mm

反應艙

方形艙體

方形艙體

反應艙材質

派熱克斯玻璃&鋁材

派熱克斯玻璃&鋁材

水冷式

水冷裝置

水冷裝置

負載比

10%至連續(xù)性

10%至連續(xù)性

標準流量

5cu-ft./Hr.@STP

5cu-ft./Hr.@STP

頻率(GHz)

2.45 GHz

2.45 GHz

功率(Watts)

100750之間調節(jié)

100750之間調節(jié)

重量 (Kg)

29.5kg

38.5kg

真空泵系統(tǒng)

抽氣速率3.8cfm/

抽氣速率3.8cfm/



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