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硬實(shí)力贏得現(xiàn)場關(guān)注 韞茂科技亮相慕尼黑上海光博會
2024年03月25日 14:00:16
來源：化工儀器網(wǎng) 作者：小王 點(diǎn)擊量：10819
2024年3月20日，慕尼黑上海光博會在上海新博覽中心順利舉行。本次展會展出面積超80000平方米，邀請了來自全球23個(gè)國家和地區(qū)的1160家展商共聚上海，吸引了國內(nèi)外超9萬名觀眾參觀。展商及觀眾對本屆光博會都給予了高度評價(jià)。其中，廈門韞茂科技有限公司憑借自身過硬的實(shí)力，在本屆光博會脫穎而出，成為焦點(diǎn)之一。
【化工儀器網(wǎng) 展會報(bào)道】2024年3月20日，慕尼黑上海光博會在上海新博覽中心順利舉行。本次展會展出面積超80000平方米，邀請了來自全球23個(gè)國家和地區(qū)的1160家展商共聚上海，吸引了國內(nèi)外超9萬名觀眾參觀。展商及觀眾對本屆光博會都給予了高度評價(jià)。其中，廈門韞茂科技有限公司憑借自身過硬的實(shí)力，在本屆光博會脫穎而出，成為焦點(diǎn)之一。
廈門韞茂科技有限公司展位
廈門韞茂科技有限公司(以下簡稱：韞茂科技)成立于2018年，是一家以納米級薄膜沉積工藝技術(shù)為核心的多領(lǐng)域全棧式薄膜沉積方案供應(yīng)商，致力于為客戶提供全方位的技術(shù)解決方案以及先進(jìn)的納米材料薄膜沉積裝備。
一直以來，韞茂科技都堅(jiān)持在技術(shù)上尋求突破，專注于將前沿技術(shù)融入到產(chǎn)品生產(chǎn)中，從先進(jìn)制造國產(chǎn)化痛點(diǎn)著手，以自主創(chuàng)新打開國內(nèi)高端產(chǎn)品市場。目前已形成了以ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng)、CVD化學(xué)氣相系統(tǒng)、Epitaxy外延爐等一系列薄膜沉積設(shè)備為核心的產(chǎn)品矩陣。
而在本次展會現(xiàn)場，韞茂科技重點(diǎn)展示了PBATCH批次型等離子體ALD，吸引了眾多觀眾前來咨詢與交流。
PBATCH批次型等離子體ALD
PBATCH實(shí)現(xiàn)低溫高質(zhì)量PEALD工藝，可應(yīng)用在高分子材料襯底等溫度敏感的襯底，制備氧化物、氮化物、金屬層等應(yīng)用，最大可支持多片12寸樣品。而ALD沉積速率低，限制了生產(chǎn)效率，批次性ALD可大幅提高ALD產(chǎn)能，降低客戶使用成本。
產(chǎn)品亮點(diǎn)
•全自動、多片、大批量生產(chǎn)；
•批次等離子體ALD可為客戶帶來更多功能性薄膜選擇；
•可提高ALD產(chǎn)能，降低客戶使用成本，實(shí)現(xiàn)極致COO；
•可在光學(xué)薄膜沉積上實(shí)現(xiàn)設(shè)備國產(chǎn)化替代；
•工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)安全互鎖、報(bào)警、EMO。
CBATCH 300S 新型多片批次型ALD
多片批次式ALD，能夠?qū)崿F(xiàn)全自動、多片、連續(xù)化生產(chǎn)，有效提高產(chǎn)能，降低COO。并且多片批次式ALD能夠?qū)崿F(xiàn)原子級別的精確控制，ALD沉積薄膜無針孔，質(zhì)量高，可作為高K值介質(zhì)層，金屬層，封裝層，電鍍種子層及其他功能層應(yīng)用，廣泛應(yīng)用于Mini/Micro LED、第三代半導(dǎo)體以及集成電路制造等領(lǐng)域。
產(chǎn)品亮點(diǎn)
•3D鍍膜實(shí)現(xiàn)原子級別精確控制
•高度精度、高重復(fù)性全自動上下料傳輸
•全自動、多片、連續(xù)化生產(chǎn)，有效提高產(chǎn)能，降低COO
•實(shí)現(xiàn)超高深寬比(1000:1)結(jié)構(gòu)的鍍膜，ALD沉積薄膜無針孔，質(zhì)量高
自成立以來，韞茂科技始終將實(shí)現(xiàn)客戶價(jià)值觀作為企業(yè)使命，以成本低、質(zhì)量高、品種新、服務(wù)優(yōu)、交期準(zhǔn)為專業(yè)基礎(chǔ)，以客戶為中心，主動了解客戶需求，努力為顧客提供全面針對性的解決方案。未來公司也將繼續(xù)將目光聚焦于填補(bǔ)部分國家高端裝備的空缺，為大眾提供更好用更實(shí)惠的產(chǎn)品。
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