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國家標準計劃《納米技術(shù) 拉曼光譜法測量二硫化鉬薄片的層數(shù)》公開征求意見
2023年12月04日 13:21:19
來源：化工儀器網(wǎng) 點擊量：17862
近日，國家標準計劃《納米技術(shù) 拉曼光譜法測量二硫化鉬薄片的層數(shù)》進入公開征求意見階段，反饋日期截止到2023年12月5日。
【化工儀器網(wǎng) 標準發(fā)布】二硫化鉬薄片具有優(yōu)異的電學(xué)、光學(xué)、力學(xué)、熱學(xué)等性能，在學(xué)術(shù)屆和工業(yè)屆都引起了廣泛的關(guān)注，已成為新一代高性能納米光電子器件國際前沿研究的核心材料之一。二硫化鉬薄片作為二維層狀材料的代表，其層數(shù)或者厚度顯著影響其光學(xué)和電學(xué)等性能。例如，單層二硫化鉬薄片為直接帶隙半導(dǎo)體，多層二硫化鉬薄片為間接帶隙半導(dǎo)體，且?guī)峨S層數(shù)增加而逐漸降低，但場效應(yīng)遷移率和電流密度會隨之提高，進而通過調(diào)控二硫化鉬薄片的層數(shù)實現(xiàn)與其相關(guān)的光電探測器、光電二極管、太陽能電池和電致發(fā)光器件的可控性能。所以，快速準確地表征二硫化鉬薄片的層數(shù)對于其生產(chǎn)制備和相關(guān)產(chǎn)品開發(fā)具有重要的指導(dǎo)意義，也是深入研究二硫化鉬薄片的物理和化學(xué)性質(zhì)的基礎(chǔ)和其開發(fā)應(yīng)用的核心。
近日，國家標準計劃《納米技術(shù) 拉曼光譜法測量二硫化鉬薄片的層數(shù)》進入公開征求意見階段，反饋日期截止到2023年12月5日。
本文件由TC279(全國納米技術(shù)標準化技術(shù)委員會)歸口，主管部門為中國科學(xué)院，起草單位為中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所、河北大學(xué)和泰州巨納新能源有限公司。本文件規(guī)定了使用拉曼光譜法測量二硫化鉬薄片的層數(shù)的方法。本文件適用于利用機械剝離法制備的、橫向尺寸不小于2µm的2H堆垛的二硫化鉬薄片的層數(shù)測量?；瘜W(xué)氣相沉積法制備的2H堆垛的二硫化鉬薄片可參照本方法執(zhí)行。
拉曼光譜作為一種快速、無損和高靈敏度的光譜表征方法，已被廣泛地應(yīng)用于二硫化鉬薄片的層數(shù)測量。比如，單層和多層二硫化鉬薄片的拉曼光譜中，高頻拉曼振動模——E2g 1和A1g的峰位差值隨二硫化鉬薄片的層數(shù)而遞增，兩層及以上的二硫化鉬薄片中低頻拉曼振動模——呼吸(LB)模和剪切(S)模的峰位與二硫化鉬薄片的層數(shù)具有確定的對應(yīng)關(guān)系。同時，對于制備在氧化硅襯底上的二硫化鉬薄片，二硫化鉬下方硅襯底的拉曼峰的強度也與其上二硫化鉬薄片的層數(shù)呈現(xiàn)單調(diào)變化的關(guān)系。因此，利用上述拉曼光譜參數(shù)特征，就可以準確地測量二硫化鉬薄片的層數(shù)。
由于不同方法制備的二硫化鉬薄片在結(jié)晶性和微觀結(jié)構(gòu)上存在較大差異，現(xiàn)有任何一種表征方法均不是具有確定意義的通用手段。在實際應(yīng)用中需要根據(jù)二硫化鉬薄片的結(jié)晶性和微觀結(jié)構(gòu)特點來選擇一種或多種合適的表征方法對其層數(shù)進行綜合分析。
本文件的制定，將為利用拉曼光譜法進行機械剝離方法制備的二硫化鉬薄片的層數(shù)測量提供科學(xué)可靠的依據(jù)以及標準的實驗方法，并促進拉曼光譜在納米技術(shù)領(lǐng)域及二維材料產(chǎn)業(yè)中的推廣應(yīng)用，為二硫化鉬薄片等二維材料的生產(chǎn)和研究提供技術(shù)指導(dǎo)。
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